低气压等离子体试验装置

1.设备名称：

    等离子体材料表面改性试验装置

2.设备功能：

    在真空条件下，注入不同的单一介质气体或按比例混合的混合介质气体，然后施加设定的高电压，激发出低温等离子体轰击材料表面，实现金属、陶瓷、塑料等材料基片的表面改性。同时设备具有进行氟气的特殊气体的表面渗透处理的功能。在氟化腔体和真空等离子腔体之间可通过真空直线运动机构以实现样品基片在不同腔体之间的转移。

3.设备特点：

   ①.设备具有两个真空腔体，一个等离子放电腔体，一个氟化腔体。两个腔体之间采用电动高真空阀门隔离，根据需要即可分开使用也可分别使用。通过排气路的高真空蝶阀的切换可以实现真空气路方向的改变。；

   ②.等离子放电腔体采用了下平底，上球罐封头的圆筒型真空腔体结构，容积约30L。腔体采用优质不锈钢材质，表面抛光处理。腔体上端设置了特殊设计的真空高压引入电极，可引入电压50KV。腔体手孔门采用了三点锁紧的快开型真空门，真空门上设置了石英玻璃视窗，腔体上另外具备了两个呈90度分布的石英玻璃观察窗，方便试验过程便于观察和摄像。在腔体上具有与腔体高度绝缘的专用地电极，有方便通信和进行内部元件控制的真空航插接头和真空NBC接头，接入了符合真空密封等级的光纤以满足就近观察试验区域的要求。腔体安装了电阻真空规和超高精度的数字真空压力表，以满足对不同真空压力分段的测量。腔体预留了电离真空规接口和高真空分子泵接口，在任何需要的情况下加装高真空装置即可实现高真空的试验需要。

    ③.氟化腔体采用上下平底的圆筒型真空结构，腔体容积约4L。在氟化腔体一端设置了运动机构安装法兰并安装了真空直线运动机构。为了避免使用过程中对不锈钢腔体腐蚀，氟化腔体内外表面采用了先进的高温聚四氟乙烯喷涂工艺进行了防腐处理，涂层致密牢靠，可以耐受HF酸的腐蚀。

    ④.为了能够控制试验腔体内的气体压力和成分，等离子放电腔体设置了两路充气通路，氟化腔体采用了一路充气通路。充气通路均采用了精密高真空微调阀作为充气控制阀。通过控制充气阀开度，真空微调阀可以将充气的压力变化控制在2Pa以内。

    ⑤.设备所涉及的真空腔体及管路系统均按照高真空标准设计，以便满足设备升级的需要。

4.设备主要性能：

    ①.真空性能

    低配（未加装高真空系统）：真空0.3Pa

    高配（加装高真空系统）：真空5×10^-4Pa

    设备总体漏率：2×10^-6Pa·m³/s

    ②.正压试验压力

    0.2MPa

    ③.接入电压

    标准：50KV

    非标：100KV

    ④.运动机构

    标准：行程：650mm，手摇旋转推进，自动抓取。

    非标：行程定制，推进可电动，抓取方式可定制

    ⑤.系统控制

     低配：隔离阀门电动，气路切换手动，泵手动

     高配：隔离阀门电动，气路切换电动，泵系统PLC控制